标题:
光纤激光打标机之泵浦源的发展历史
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作者:
laisai
时间:
2012-8-1 16:04
标题:
光纤激光打标机之泵浦源的发展历史
半导体激光打标机
激光器发展的第二阶段是异质结构半导体激光器,它是由两种不同带隙的半导体材料薄层,如
G&As, GaAlAs
所组成,最先出现的是单异质结构激光器
(1969
年
).
单异质结注人型激光器
(SHLD)
是利用异质结提供的势垒把注入电子限制在
GaAsP
一
N
结的
P
区之内,以此来降低阀值电流密度,其数值比同质结激光器降低了一个数量级,但单异质结激光器仍不能在室温下连续工作
.
1970
年,实现了激光波长为
9000A.
室温连续工作的双异质结
GaA(
砷化稼一稼铝砷
)
激光器
.
双异质结激光器
(DHL)
的诞生使可用波段不断拓宽,线宽和调谐性能逐步提高,其结构的特点是在
P
型和
n
型材料之间生长了仅有
0.2Eam
厚的,不掺杂的,具有较窄能隙材料的一个薄层,因此注人的载流子被限制在该区域内
(
有源区
)
,因而注人较少的电流就可以实现载流子数的反转
.
在半导体激光器件中,目前比较成熟、性能较好、应用较广的是具有双异质结构的电注人式
G&A
。二极管激光器
.
随着异质结激光器的研究发展,人们想到如果将超薄膜
(<20nm)
的半导体层作为激光器的激括层,以致于能够产生量子效应,结果会是怎么样
?
再加之由于
MBE,MOCVD
技术的成就,于是,在
1978
年出现了世界上第一只半导体量子阱激光器
(QWL)
,它大幅度地提高了半导体
激光打标机
激光器的各种性能
.
后来,又由于
MOCVD,MBE
生长技术的成熟,能生长出高质量超精细薄层材料,之后,便成功地研制出了性能更加良好的量子阱激光器,量子阱半导体激光器与双异质结
(DH)
激光器相比,具有阑值电流低、输出功率高,频率响应好,光谱线窄和温度稳定性好和较高的电光转换效率等许多优点
.
QWL
在结构上的特点是它的有源区是由多个或单个阱宽约为
100
人的势阱所组成,由于势阱宽度小于材料中电子的德布罗意波的波长,产生了量子效应,连续的能带分裂为子能级
.
因此,特别有利于载流子的有效填充,所需要的激射阅值电流特别低
.
半导体激光器的结构中应用的主要是单、多量子阱,单量子阱
(SQW)
激光器的结构基本上就是把普通双异质结
(DH)
激光器的有源层厚度做成数十
nm
以下的一种激光器,通常把势垒较厚以致于相邻势阱中电子波函数不发生交迭的周期结构称为多量子阱
(MQW).
量子阱激光器单个输出功率现已大于
1w
,承受的功率密度已达
lOMW/cm3
以上而为了得到更大的输出功率,通常可以把许多单个半导体激光器组合在一起形成半导体激光器列阵。
因此,量子阱激光器当采用阵列式集成结构时,输出功率则可达到
l00w
以上
.
近年来,高功率半导体激光器
(
特别是阵列器件
)
飞速发展,已经推出的产品有连续输出功率
5W,10W,20W
和
30W
的激光器阵列
.
脉冲工作的半导体激光器峰值输出功率
50w
,
120W
和
1500W
的阵列也已经商品化
.
一个
4.5cm
×
9cm
的二维阵列,其峰值输出功率已经超过
45BW.
峰值输出功率为
350KW
的二维阵列也已间世,从
20
世纪
70
年代末开始,半导体激光器明显向着两个方向发展,一类是以传递信息为目的的信息型激光器
.
另一类是以提高光功率为目的的功率型激光器
.
在泵浦固体激光器等应用的推动下,高功率
光纤激光打标机
之泵浦源
--
半导体激光器
(
连续输出功率在
100
以上,脉冲输出功率在
5W
以上,均可称之谓高功率半导体激光器
).
20
世纪
60
年代初期的
光纤激光打标机
之泵浦源
--
半导体激光器是同质结型激光器,它是在一种材料上制作的
pn
结二极管在正向大电流注人下,电子不断地向
p
区注人,空穴不断地向
n
区注入
.
于是,在原来的
pn
结耗尽区内实现了载流子分布的反转,由于电子的迁移速度比空穴的迁移速度快,在有源区发生辐射、复合,发射出荧光,在一定的条件下发生激光,这是一种只能以脉冲形式工作的半导体激光器
.
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