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标题: 半导体激光打标机用到的反射镜和输出镜 [打印本页]

作者: laisai 时间: 2012-9-5 09:32 标题: 半导体激光打标机用到的反射镜和输出镜

半导体激光打标机用到了25外径的，厚度为5MM的，K9基底材料的全反镜一片，和输出率约为20%的输出镜一片，现在重点来介绍下半导体激光打标机和二氧化碳激光打标机用到的全反和输出镜。
反射镜的材料
反射镜材料的选择主要依据两项指标:热破坏性和热变形性。
对热破坏性能的评价指针式中，T。为材料破坏的临界温度'x、为表面吸收系数;K为热导率。对热变形性能的评价指针式中，二为线胀系数。反射镜基底材料分两类:一类是用于中小功率激光器及近红外、可见光及紫外激光器，大多采用石英玻璃、玻璃或硅等材料，然后再在基底表面镀反射膜;另一类是用于红外区的CO2激光器，其反射镜的材料有}和金属(如Cu,I等)，在高功率}::激光器中的反射镜主要采用金属铜镜和铝镜，并且需对反射镜加水冷系统以防止产生热畸变;

反射镜的种类
反射镜按其曲率和形状可分为平面反射镜、球面反射镜和非球面反射镜〔如抛物镜、屋脊镜、自适应镜和积分镜等);按其用途可分为激光器谐振腔内的全反射镜、反射式聚焦镜和外光路系统中的转换镜等。平面反射镜、球面反射镜和自适应镜等都可用来作为激光器谐振腔内的全反射镜，激光打标机球面反射镜和非球面反射镜(如抛物镜和积分镜等)可用作反射式聚焦镜。

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