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标题: 瑞萨科技利用新工艺制造技术改进晶体管性能 [打印本页]

作者: juliguo    时间: 2007-6-26 11:35     标题: 瑞萨科技利用新工艺制造技术改进晶体管性能

瑞萨科技Renesas宣布开发出一种具有45 nm纳米及以上工艺的微处理器和SoC系统级芯片器件低成本制造能力的超高性能晶体管技术。新技术利用瑞萨开发的专有混合结构——公司在2006年12月以前发布的一种先进技术——改善了CMIS晶体管的性能。






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