电子技术论坛_中国专业的电子工程师学习交流社区-中电网技术论坛

标题: Mentor Graphics工具通过TSMC16nm FinFET+工艺制程认证 [打印本页]

作者: yuchengze 时间: 2017-3-25 20:34 标题: Mentor Graphics工具通过TSMC16nm FinFET+工艺制程认证

俄勒冈威尔逊维尔，2014年9月25日– Mentor Graphics公司（NASDAQ：MENT）今日宣布，基于台积电（TSMC）的SPICE仿真工具认证程序，Analog FastSPICE (AFS™)平台（包括AFS Mega及Eldo®）通过了16nm FinFET++V0.9工艺制程认证。V1.0的认证正在进行中，将于2014年11月完成。 “Mentor的Analog FastSPICE平台、AFS Mega和Eldo已成功达到16nm FinFET+技术的精度和兼容性要求。采用TSMC 16nm FinFET+技术，客户可通过精确的验证解决方案来进行极具竞争力的设计，”TSMC设计基础设施营销部门资深总监Suk Lee称。
Analog FastSPICE平台可对纳米模拟、射频（RF)、混合信号、存储器及定制数字电路进行快速的电路验证。对于较大的电路，AFS平台还能提供大容量、高速度的混合信号仿真，包括行业仅有的综合全频谱器件噪声分析。针对存储器及其他基于阵列的电路，AFS Mega提供基于“硅精确”的仿真。
“在与TSMC的合作中，我们对Analog FastSPICE、AFS Mega和Eldo进行了TSMC的16nm FinFET+认证，这是另一个重要的里程碑，”Mentor公司DSM部门的AMS验证总经理Ravi Subramanian说。“通过持续与TSMC的密切合作，我们将确保为双方的共同客户提供能满足最复杂、整合度最高的纳米模拟、混合信号和RF设计要求的纳米验证平台。”
Mentor Graphics Calibre®和Olympus-SoC™ 平台也通过了TSMC的16nm FinFET+工艺制程认证。Olympus-SoC产品支持TSMC的16nm FinFET+设计规则，提供管脚连接、布线改善及高级低电压时序收敛功能，同时还支持MCMM优化。Calibre xACT™系列产品对运行时长和精度进行了改善，从而双方的共同客户可更充分地利用TSMC的16nm FinFET+工艺。

欢迎光临电子技术论坛_中国专业的电子工程师学习交流社区-中电网技术论坛 (http://bbs.eccn.com/)