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标题: Mentor Graphics CEO的中国之行 [打印本页]

作者: yuchengze 时间: 2017-3-25 21:22 标题: Mentor Graphics CEO的中国之行

2013年9月3日，EDA公司Mentor Graphics主办的Mentor Forum China 2013设计技术论坛北京站在北京永泰福朋喜来登酒店隆重举行，来自ARM、格罗方德、三星、台积电、中芯国际等诸多业界知名厂商的权威人士担任与会讲师，就技术议程分享及交流经验。此外，Mentor Grapgics的CEO Walden Rhine先生奉上了“The Big Squeeze”的精彩演讲，并接受了媒体专访，详尽地介绍了Mentor Graphics公司的近况与发展规划。Mentor Grapgics公司2013业绩突出，成长迅速
谈到Mentor Grapgics的近况， Rhine先生说，“EDA行业今年非常好，成长得最快的两部分一个是硬件仿真器，一个是IP，其中mentor的硬件仿真器Veloce尤其增长迅速，今年到现在的订单已经相当于去年一整年，去年比前年多一倍。” Mentor的Veloce为什么成长如此快？“我们提供很多独特的功能和优点，主要体现在四个方面：第一,上一代的Veloce1跟最接近的对手的最好机器差不多平手；我们新的Veloce2有如下特点：VirtuaLAB虚拟实验室，它是一个纯软件的环境，可以同时支持多种软件和硬件开发，相比于以前开发者用硬件适配器连接物理外设模拟器的状况，VirtuaLAB以软件的方式连接，随时改变远程遥控；第二, Test Bench加速器，对设计本身加速，有时候testbench很长，所以需要统一加速；第三，Veloce不仅提供硬件加速，我们对软件debug也可以加速。第四，Veloce最多可验证20亿逻辑门的设计方案，这些优点是其他人没有办法提供的。Mentor Graphics整个公司的业绩表现非常好，我们发布了二季度成绩，二季度订单同比增长70%，上半年订单增长85%，非常靓丽的结果。”
为“超越摩尔”所做的努力与创新
近年来，越来越多的人提出“摩尔定律”即将寿终正寝的说法，诚然，随着工艺节点的缩小，半导体工艺与设备都面临着空前的挑战。然而， Rhine却认为，半导体产业的学习曲线，其实并不是摩尔定律讲的尺寸随时间降低，而是成本降低曲线，成本的降低会继续发生，从10nm 到7nm，其实尺寸并没有降低多少，如今半导体行业上下游真正面对的是缩小成本的压力，面对这一压力，Mentor能够做到的是：被行业给予厚望的EUV技术，同样需要软件做REP OPC，Mentor会提供相关的软件；成本降低可能牵扯到的3D IC，Cowos工艺，Mentor也提供了相应的EDA工具。
谈未来发展
根据以往市场的经验，十亿美元对于半导体行业中的公司是个坎，但是Mentor公司对前景显然充满自信，“Mentor 2011年突破10亿，其实并没有特定的意义，我们更重视在现有EDA市场里继续成长，另外不断找到新的市场，Mentor新的市场，比如汽车和航空航天新的电子系统设计市场，非常成功。”Rhine说。而谈到公司未来的具体规划，“未来三到五年我们会专注7nm，比如可靠性分析，14nm以下会需要。热分析，SADT，多光照多封装，电子迁移移效应，也是我们未来几年开发的重点。除了半导体，我们未来会有1/3研发经费放在电子系统上面，比如汽车和航天航空上的标准化、汽车网络、Autosar（汽车开放系统架构）等，汽车航空航天已经很重要了，他们的产品从布线工具到汽车网路，信息娱乐，等等，还有新的设计标准Genivie Autosar，我们认为这块成长会快于传统。汽车电子化成长非常快。”
谈中国市场
而谈到中国市场，Rhine先生显然表现得非常重视，据悉，Mentor公司在中国的EDA市场占有率为34%，其营收占其全球总营收的8%，尽管目前8%的比例还不算高，“但在这边的成长速度很快，比其他地方快一倍”Rhine说。

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