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Mentor Graphics和Lumerical统一光学设计和模拟流程

Mentor Graphics和Lumerical统一光学设计和模拟流程

关键字:光学设计   硅光子   仿真工具   Mentor Graphics  
2014 年9月19日-电子设计自动化领域的领先企业 Mentor Graphics公司今天宣布与Lumerical的INTERCONNECT相集成,以实现新的可以利用Pyxis和Calibre平台的硅光子设计方法。通过INTERCONNECT集成,用户现在能够直接从Pyxis Schematic执行光学电路模拟。
通过此集成,用户可以建立硅光子设计和测试平台、设置光学模拟参数以进行瞬态和频率分析、执行模拟,并从Pyxis Schematic仿真组件中以交互的方式查看结果。这不仅可以极大地提高工作效率,还可以充分利用与高容量EZwave波形查看器的现有集成。EZwave查看器包含基于波形的内置计算器,眼图工具和TCL脚本,在电子领域中通常被用作混合信号波形的查看器,也是处理光学模拟结果的理想方法。

在Pyxis自定义IC设计平台中,可以将Pyxis Schematic与用于版图设计的工具Pyxis Implement结合使用。使用原理图驱动版图的Pyxis Implement因其全角度编辑功能而知名,它允许用户使用支持径向和绝热弯曲以及S型弯曲的连接驱动波导布线,来快速放置并组合光子参数化单元。为了完成此硅光子设计整套流程方法,Calibre工具会执行DRC、LVS、曝光模拟和智能填充,以确保光子器件的整个生产流程都符合设计意图。

用于光学电路仿真的Lumerical INTERCONNECT
Pyxis平台设计组件中的光学电路仿真是通过Lumerical的INTERCONNECT光子集成电路设计和仿真工具来执行的。通过作为集成项目的一部分添加到INTERCONNECT中的网表导入和导出功能,可以在Pyxis平台组件内建立设计、设置仿真和执行仿真。时域及频域仿真使用INTERCONNECT仿真器运行,其结果将提供给EZ Wave查看器进行分析。可以在PDK驱动的设计流程中将光子器件用于准确仿真的关键运行参数定义为 INTERCONNECT紧凑模式。紧凑模式可以从晶圆代工厂特定或测量的数据派生而来,这样可提高设计精度并消除器件更新。

“INTERCONNECT与Pyxis的集成为可扩展的光子集成电路设计、仿真和分析提供了一个无缝环境,”Lumerical Solutions的CTO James Pond博士说,“过去十几年来,Lumerical的光子仿真软件一直为设计师和研究人员提供各种用于创新性部件设计的工具。通过与Mentor Graphics合作,我们可以提供一个完整的设计生态系统,这是在各种应用程序中提高集成光子学技术的基础。”

PDK 开发
Mentor和Lumerical开发了流程设计套件 (PDK),该套件通过OpSIS和CMC/SiEPIC来实现硅光子设计流程。此外,Mentor Graphics和Lumerical正在与硅光子领域的技术领导者A*STAR 微电子研究所 (IME) 合作,为它们完善且广泛采用的技术平台开发下一代 PDK。

“过去三年来,我们已经采用Mentor和Lumerical工具为我们的项目开发PDK驱动的硅光子方法,”SiEPIC项目总监Lukas Chrostowski教授说,“Lumerical提供了出色的光学仿真工具,而Mentor的Calibre提供了最佳验证,Mentor的Pyxis为硅光子设计提供了合适的框架。我们将在下次10月24-28日的研讨会上介绍 Pyxis PDK和 IME制造。”

在2014年欧洲最大型的光通信活动ECOC展会上,Mentor和Lumerical将开展一个研讨会来展示此新集成。
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