首页 | 新闻 | 新品 | 文库 | 方案 | 视频 | 下载 | 商城 | 开发板 | 数据中心 | 座谈新版 | 培训 | 工具 | 博客 | 论坛 | 百科 | GEC | 活动 | 主题月 | 电子展
返回列表 回复 发帖

XDCP中的variable resistance在半导体工艺技术上是怎样实现的？

中级会员

Rank: 3Rank: 3

UID
83563 
性别
男 
1#
打印
tT
ljp发表于 2003-8-7 16:54 | 只看该作者

XDCP中的variable resistance在半导体工艺技术上是怎样实现的？

resistance, variable, XDCP, 半导体工艺, 技术
XDCP中的variable resistance在半导体工艺技术上是怎样实现的？它是多晶硅电阻，还是扩散电阻，还是N、P阱电阻？
收藏 分享 评分
回复 引用

订阅 TOP

返回列表