二氧化碳激光打标机的激光束人射到材料表而，要进行材料的激光加工，会在材料表而产生反射、散射和吸收等物理过程。因必须了解材料对激光的反射.与吸收特性。下面主要介绍的是在较小的CO2激光器功率下，材料的对10.6微米激光的吸收特性。，
上述这些分析都是在较低的激光功率密度低于一定的数值下获得的，如果继续增大激光功率密度，那么由于高功率密度激光束辐射的动力效应，上面的规律则会变得有错误的了，这样要做到具体问题具体分析。比如二氧化碳激光打标机在哪300W功率时，对金属材料刚不全为反射，会产生几个吸收的高峰点，这样利用到那几个高峰点，就能用到切割金属材质了。
材料的发射率，在许多情况下，材料的吸收特性是通过L}一算材料的发射率得到的，材料的发射率，其结果由下面公式给出，又为激光波长;R;为反射率，为材料的表面温度口一般来说，是随T的改变而改变的。对于一种金属材料，假定表面没有氧化，.且处于真空中，则可计算其发射率。激光束垂直入射时材料的发射率为下列式中计算可以得出，n为复发射率，K:为消光系数。对于金属材料来说KZ均是正比的函数。波长对材料发射率的影响，为300K时T1的发射率参数一与波长的关系。在这个区域变化较大。在长波区域，n和K随s的增加迅速增加，相应的M平方则减小。
温度对材料的反射率的影响，波长为可见光波长时几种金属材料的发射率 r)随温度的变化情况而波长为远红外光时的几种金属材料的发射率随温度的变化关系则和第一种完全不同。
半导体激光打标机氧化层和涂层对材料发射率的影响，除了波长和温度对材料发射率有影响外，材料表面的氧化层对发射率也有影响，当有氧化层存在时，材料的发射率明显增加，而且对于一个特定温度，氧化层厚度与时间有关，从而材料发射率也是时间的函数。
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