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瑞萨宣布开发出一种有助于采用65nm(65纳米)制造工艺生产的SRAM(静态随机存取存储器)实现稳定运行的技术。新技术采用了一种直接图形成型布局和读辅助及写辅助电路,以克服采用精细特征工艺技术时由于晶体管固有特性可变性带来的SRAM不稳定问题。尤其是,该技术解决了与门限电压(Vth)有关的诸如晶体管导通或关断时出现的边线电压的重要问题。fficeffice" />
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