ITO蚀刻剂（/养化锡/铟养化锡蚀刻剂 TE-100） 氧化锡/铟氧化锡蚀刻剂TE-100 是应用于微电子行业的氧化锡/铟氧化锡层的选择性蚀刻剂，可高效的对陶瓷，绝缘层，半导体和多种金属底层上的氧化锡/铟氧化锡沉淀膜进行蚀刻，具有边界清晰，蚀刻速度可控的特性，与正负性光刻胶良好兼容。TE-100 不可用于含镍，铜，镍锘合金和铝的材质。 特性：
外观--深琥珀色
蚀刻率（室温25癈）--15-20 ?/ sec（浸没）
工作温度--40-50 癈
漂洗--去离子水
存储--20-25 癈
有效期--一年（15-25 癈）
EMD代理美国TRANSEMNE公司各种蚀刻剂，光刻胶等，品种齐全，欢迎来电来邮索取技术参数与价格
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